半导体器件-半导体工艺-掺杂

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发布时间:2023-03-21 02:03:54

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半导体工艺简介-掺杂 物理与光电工程学院 张贺秋 参考书:《芯片制造-半导体工艺制程实用教程》,电子工业出版社,赵树武等译,2004-10 掺杂工艺 扩散、离子注入 集成电路生产过程中要对半导体基片的一定区域掺入一定浓度的杂质元素, 形成不同类型的半导体层, 来制作各种器件, 这就是掺杂工艺。 目的 1、理解掺杂工艺的概念。 2、理解扩散的概念及发生扩散的条件。 3、掌握结的定义。 4、画出掺杂原子(浓度)分布曲线。 5、列举离子注入机的主要部件及功能。 扩散 物质的微粒总是时刻不停地处于

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